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Centro de Estudos Latino-Americanos de Harvard David Rockefeller (DRCLAS). Divulgação.
Centro de Estudos Latino-Americanos de Harvard David Rockefeller (DRCLAS). Divulgação.

Convocatória Fotográfica Isolamento Coletivo na América Latina, por Rosângela Vig

Rosângela Vig é Artista Plástica e Professora de História da Arte.

Rosângela Vig é Artista Plástica e Professora de História da Arte.

Indicação de Edital via Editais e Afins:

O Centro de Estudos Latino-Americanos de Harvard David Rockefeller (DRCLAS) está com inscrições abertas para artistas e fotojornalistas consagrados para a próxima exposição digital Documentando o Impacto do Covid-19 por meio da fotografia: Isolamento Coletivo na América Latina.

A competição visa criar um registro visual crítico de nossos tempos sem precedentes. O ano de 2020 será lembrado como um divisor de águas no qual uma pandemia revelou as desigualdades e fissuras em nossa sociedade e a relevância de viver e participar de comunidades, mesmo enfrentando a pandemia isoladamente.

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O concurso é aberto a fotojornalistas e artistas estabelecidos e em meio de carreira, cidadãos de qualquer país, mas as fotografias devem ter sido tiradas na América Latina ou no Caribe, incluindo Porto Rico, entre 1 de março e 30 de agosto.

Um júri formado por estudiosos, curadores e artistas afiliados à Harvard analisará todas as inscrições e selecionará os vencedores e os três trabalhos premiados farão parte da coleção permanente de arte e fotografia da DRCLAS, além serem convidados a participar de uma mesa redonda virtual organizada pela DRCLAS durante o semestre do outono.

O concurso será encerrado após as duzentas primeiras inscrições recebidas, mesmo que seja antes do dia 1º de setembro. Até dia 16 de julho, já foram submetidas cento e vinte inscrições.

CRONOGRAMA
– Inscrições: até 1º de setembro/2020, via email (ou quando chegar ao limite de duzentas inscrições)
– Taxa de inscrição: não
– Premiação: primeiro prêmio de US$ 1.000; segundo prêmio de US$ 600 e terceiro prêmio de US $ 400.
– Regulamento + Inscrição: bit.ly/2WJ7L1J

 

Fonte: Editais e Afins.

 

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